多用快速真空炉 ZDQZKN-60-1000
产品概述
多用快速真空炉(型号:ZDQZKN-60-1000)是一款集成超高真空、快速升降温、气氛控制于一体的多功能高端热处理设备。该设备在极限真空度6×10⁻⁴Pa的超高洁净环境中,实现1000℃高温及±5℃的卓越温度均匀性,并配备自动加气系统与强制风冷降温模块,支持快速工艺循环。结合60KW高效加热、双区独立控温及15寸大屏智能数据管理系统,为半导体芯片封装、高端合金处理、特种材料烧结等复杂工艺提供灵活、高效、可靠的解决方案。
核心参数
技术特点与优势
超高真空与快速工艺能力:极限真空度达6×10⁻⁴Pa,为芯片封装、超高纯材料处理提供极端洁净环境;结合强制风冷系统,大幅缩短工艺周期,提升生产效率。
智能化气氛管理:集成自动加气系统,可在真空、惰性、还原等多种气氛间灵活切换,满足材料烧结、钎焊、退火等多样化工艺需求。
精密温场与快速响应:双区独立控温确保1000℃下±5℃的温度均匀性;60KW大功率加热与优化热场设计实现快速升温,满足对升温速率有严苛要求的工艺。
全流程智能控制与追溯:15寸大屏集中控制工艺全过程,自动记录真空度、温度、气氛、冷却等多维数据,生成可追溯的电子工艺报告,确保工艺一致性与质量可控。
多功能灵活配置:一机多用,覆盖真空烧结、气氛烧结、真空钎焊、真空退火、快速淬火等多种工艺,适用于从研发到中小批量生产的全阶段需求。
主要应用领域
本设备是以下高科技领域进行高质量、快速热处理的核心装备:
半导体与先进封装
芯片级封装:CSP、Flip Chip的真空/气氛共晶焊、回流焊。
功率器件封装:IGBT、SiC模块的真空钎焊与气氛烧结。
MEMS器件:传感器、执行器的真空键合与快速退火。
新能源与特种材料
精密制造与研发
多用快速真空炉、超高真空热处理炉、快速升降温真空炉、真空气氛一体炉、1000℃多功能真空炉、自动加气真空炉、强制风冷真空炉、智能真空钎焊炉、实验室快速真空炉、半导体封装真空炉
生产企业
中达强 —— 凭借十年在高端多功能真空热处理装备领域的技术深耕,为全球半导体、新能源及精密制造行业提供灵活、高效、智能的真空热处理整体解决方案。
本设备以其超高真空能力、快速工艺循环、灵活的气氛控制与全面的智能化管理,成为满足多工艺需求、加速研发迭代、提升生产灵活性的战略性装备,尤其适合工艺复杂、要求严苛的高端制造场景。