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深圳市中达强电炉有限公司
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高真空炉
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高真空多用快速真空炉 ZDQZKN-30-600

产品概述

高真空多用快速真空炉(型号:ZDQZKN-30-600)是一款集超高真空、快速升降温、可控气氛于一体的多功能精密热处理设备。该设备在极限真空度6×10⁻⁴Pa的极端洁净环境中,实现600℃工作温度及±5℃的优异温度均匀性,并集成自动加气系统高效风冷降温模块,大幅缩短工艺周期。配备30KW高效加热双区独立控温15寸大屏智能数据管理系统,为半导体封装、精密钎焊、合金退火及特种材料处理提供灵活、高效、高可靠性的工艺平台。

核心参数

项目参数
型号ZDQZKN-30-600
额定功率30KW
最高工作温度600℃
温度均匀性±5℃(空载)
极限真空度6×10⁻⁴ Pa
有效炉膛尺寸1000(长) × 350(宽) × 350(高) mm
控温方式2区独立智能控温
炉胆材质特种高温合金
气氛控制自动加气系统(惰性/还原性气体)
冷却系统强制风冷快速降温
控制系统15英寸智能触摸屏
数据功能无纸记录、工艺曲线、生产报表
外观颜色米白色

技术特点与优势

  1. 超高真空洁净环境:极限真空度达6×10⁻⁴Pa,为芯片级封装、高纯材料处理提供无氧、无水、无污染的极端环境,确保工艺过程零污染。

  2. 快速工艺循环能力:高效加热与强制风冷系统配合,实现快速升温与冷却,大幅缩短生产周期,提高设备利用率和生产效率。

  3. 智能化气氛管理:集成自动加气系统,支持真空、惰性(如氮气、氩气)、还原性(如氢气)等多种气氛的精确控制和快速切换,满足多样化工序需求。

  4. 精密温场控制:双区独立控温技术确保在600℃下温度均匀性达±5℃,特别适用于对温度敏感性高的精密元器件和合金材料处理。

  5. 全流程数字化管理:15寸大屏实现工艺编程、实时监控与数据自动采集,完整记录真空度、温度、气氛压力及冷却曲线,生成可追溯电子报告,保障工艺一致性与质量可控。

主要应用领域

本设备是半导体电子、精密制造及新材料领域进行高质量热处理的理想选择:

半导体与微电子封装

  • 芯片级封装:CSP、Flip Chip的真空/气氛共晶焊、回流焊。

  • 功率器件:IGBT、MOSFET模块的真空钎焊与封装。

  • MEMS器件:传感器、执行器的真空键合与快速退火。

精密合金与特种材料

  • 高纯合金处理:铍铜、无氧铜的真空退火与时效;双金属扩散焊。

  • 贵金属加工:银触点、金基焊料的真空烧结与钎焊。

  • 特种陶瓷:LTCC、电子陶瓷基板的真空排胶与预烧结。

通用快速热处理

  • 航空航天部件:小型钛合金、铝合金零件的真空退火与去应力。

  • 汽车电子:传感器、连接器的真空钎焊与封装。

  • 新材料研发:复合材料、功能材料的真空/气氛处理及快速工艺验证。


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生产企业

中达强 —— 凭借十年在高真空、多功能热处理装备领域的技术深耕,为全球半导体、精密制造及新材料行业提供高性能、高灵活性的真空热处理整体解决方案。


本设备以其超高真空洁净度、快速工艺循环、灵活的气氛控制与全面的智能化管理,成为满足多工艺需求、加速研发迭代、提升生产灵活性的战略性装备,尤其适合工艺复杂、要求严苛的高端制造场景